雷尼绍方案：看，如何提升制程稳定性！
韩国运动平台制造商VAD Instrument（以下简称VAD）主要为客户开发定制化的精密运动平台，当中包括提供给需要在真空环境下工作的制程设备。
真空应用与要求
许多精密工业制程都必须在真空环境下进行，目的是减少任何气体分子在制程中对加工品的影响。而制程中所涉及到的相关运动控制零组件如导轨，基体等金属材料，以及电机散热问题，则需要经过严格考虑，并采用兼容真空环境的光栅系统，包括耐高温、高洁净度、降低整体气体量释出等特殊设计。
半导体真空平台
TONiC UHV超高真空兼容光栅 目前VAD大部分平台型号均采用雷尼绍TONiC系列光栅系统，视精度要求配置不同种类的栅尺。
TONiC UHV光栅系统
VAD总裁Song, Baek-Kyun先生说道：“VAD一般平台型号配置RTLC系列钢带栅尺，如果涉及真空应用、像显示面板AOI检测设备或半导体制程设备等，我们会配置更高精度的RELM系列栅尺，配置兼容真空的TONiC读数头，连接到位于真空腔外的接口。
另外我们开发用于半导体EUV光刻机的膜板检测设备，由于精度要求达到ppm等级，需要采用雷尼绍高端的RLE系列激光尺定位系统，激光发射头安装在XY平台上，而雷尼绍可以提供性能稳定的激光尺，这在市场上比较少见。”
真空平台配置RLE激光尺系统
雷尼绍TONiC UHV超高真空兼容光栅系列，从读数头、电缆到栅尺都是必须经过专门设计，真空压力高达10-10 Torr，读数头配置RFI屏敝线缆，其基本工作原理，规格性能与我们在大气压下使用的标准型TONiC型号无异。
但是，UHV光栅的读数头在设计上消除了气密孔，并且由高洁净的真空兼容材料和粘合剂特制而成，以避免对加工产品质量造成损坏。
近乎零的热膨胀系数栅尺 TONiC光栅可搭配多款不同特性的栅尺，并且适合在真空环境应用。Song,Baek-Kyun先生解释他们选择栅尺的准则：“我们部分高端机型，采用了雷尼绍RELM系列栅尺，主要看中它近乎零的热膨胀系数，以确保定位精度在温差范围变化大的环境下得以保持，要知道真空腔的温差可达100 °C。”
雷尼绍RELM是一款20μm栅距栅尺，在1 m长度内精度高达±1 μm，以坚固的雷尼绍专利材料ZeroMet制成，其热膨胀系数仅为0.75±0.35 μm/m/°C（20 °C时），栅尺可利用背面自带的不干胶带进行安装，同时也支持机械安装方式以避免不干胶在真空中释出气体。
XL-80激光干涉仪检测精密直线平台
Song, Baek-Kyun先生继续说：“我们看好未来真空应用设备的市场需求，尤其是半导体和显示面板等精密工业制程。目前VAD正在开发更多相关的制程平台。在质量管控方面，我们正在采用雷尼绍XL-80系列激光干涉仪对设备出厂前进行精度检测，大大增加客户对我们的设备性能表现的信心。”
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（China Marketing 雷尼绍Renishaw ）
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