通过高脉冲实现高性能的涂层

HPPMS－通过高等离子电离法改进涂层的性能

　　商业与科学机构都在不断寻找解决方案经过优化之后，如何使涂层更为有效的方法。使用高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）技术，可以使物理气相沉积（PVD）技术释放出巨大的潜力。

　　除了其它的几个参数，例如活性和惰性气体的压力，衬底偏置和随系统决定的参数，在涂覆工艺中发生电离，对于PVD涂层的质量具有非常重要的意义。
通过系统优化提高质量。

　　CemeCon公司在很早以前，就已经认识到电离和涂层质量之间的一致性。在过去的20年以来，CemeCon对涂层技术的改进作出了很多贡献，并且将它们实施到CC800 ®型涂覆设备单元中用于增强电离作用。

　　除了优化的磁场，脉冲技术和送气系统之外，专利的阳极以及助推技术，都是超级氮化物涂层的优良特性的产生原因。

　　CC800®/9系统的高电离作用，允许超级氮化物涂层在比较低的偏置电压下进行生产。这意味着，日益加厚的涂层，需要不断地承受激烈的低能量的轰击。这种离子轰击虽然是温和的，但是却是高剂量的，因而产生一个不断高度压缩的涂层，同时不会产生不必要的缺陷。

　　因此，在实践中，由于超级氮化物的残余应力大约为-1 （千兆帕斯卡）Gpa，从而与其它涂层区分开来，而最传统的涂层材料的残余应力为-3至-4 Gpa。减少残余应力具有巨大的优势－其中之一是，它允许涂覆较高的涂层厚度，使刀刃上的涂层更好和更光滑，并且粘附性也得到优化。

脉冲和溅射技术是经济的，高品质涂层的基础。HPPMS是开发这项前沿技术的潜力的关键。

　　高功率- 顶级性能

　　为进一步增加电离作用，两年前，CemeCon就已经与HPPMS的发明人一起开发这项技术了。用HPPMS技术代替传统的直流等离子刺激，采用较短的开启时间和相对比较长的关闭时间的脉冲等离子。通常情况下，等离子的负载因子在大约50至500赫兹时是1:100。因此，一个10千瓦的直流电源输出，可以被分为大约1兆瓦的短脉冲和相应延长的停止时间。

　　HPPMS极高的脉冲流，在涂层源的前面，形成一个非常稠密的等离子区。该涂层源中几乎所有的原子通过等离子区时，都将被离子化，从而产生重大的电离增强作用。

　　与科研联系紧密

　　到现在为止，已经建成了七套CC800®/9 HPPMS系统，并交付给研究机构使用。CemeCon与这些机构一起对HPPMS进行优化，并推动此项技术在各个领域的应用。在这里，使涂层更厚密，更均匀，是研究的目标。当前所有工作的主要焦点，是对超级氮化物的进一步开发，进一步降低残余应力并且改进性能。
使用HPPMS专利技术的CC800®/9涂层系统的用户可以获得许多好处：超级氮化物的特点是，由于极低的残余应力可以允许涂覆较高的涂层厚度，使刀刃上的涂层更好和更光滑，并且粘附性也得到优化。极厚的涂层解决方案，为这种前沿的工艺技术，打开了新的机遇。

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