CC800涂层设备

　　采用H.I.S(高能离子磁控溅射)工艺可获得最先进的(Ti，Al)N涂层，使沉积的涂层有极佳的附着力；纳米结构的膜层具有高的硬度、耐磨性和热稳定性，以及低的摩擦系数和良好的韧性，非常适合于高性能切削领域。

　　H.I.S技术可直接将被蒸发材料从固态转化为气态，从而可根本避免采用ARC(电弧)技术时，蒸发材料在熔融状态中以液滴的形式沉积于工件表面的现象，使通过H.I.S获得的涂层具有非常光滑平整的表面。

　　天威赛利涂层技术有限公司

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